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3208909022的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的聚酰亞胺原液和聚酰亞胺樹脂溶液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，粘度（25℃）為2500-3000mPa·s
3209901020的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3209100020的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3208201030的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3209909021的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3208909021的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3209909022的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的旋涂玻璃：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，密度為0.8-0.9g/cm3
3208100020的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3209902020的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-
3208202020的HS編碼同時滿足以下指標(biāo)的用于集成電路生產(chǎn)的防反射薄膜生成液：揮發(fā)性有機物含量＞700g/L，反射值（N）為1-2.1，及吸光指數(shù)（K）（248nm或193nm波長測試）為0-

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